Aegis是一个独特的新的等离子增强型化学气相沉积系统，设计用以硅基上薄膜的沉积（SiO2,SiNx,SiOxNy,a-SixHy）。该系统在很紧凑的空间提供了等离子化学气相辅助沉积系统标准的功能。电脑触摸屏提供了一个友好的操作界面用以接口参数控制和制程存储。该系统是超高亮度LED晶片大规模生产的理想选择。
应用：
（1） 沉积氧化硅（SiO2）
