一、曝光灯源

高压汞灯功率350W；
曝光光源尺寸:10cmX10cm；
光源波长:NUV(含365nm，400nm，435nm)；
均匀度: + -5%以内；
电源供应器: 350W，具功率调整设定功能；
光源位置固定不移动；

二、影像系统

两支7倍可变倍率镜头，放大倍50X-350X
双CCD影像系统，两个9"黑白萤幕；
具同轴光源；
对准点间距3.5cm-15cm；
镜头位置可对对准点作左右，前后上下调整， 基座以气缸驱动，做左右移动；

三、曝光对准台

光罩真空吸盘: 5" c上吸式；
晶圆真空吸盘:4"，可操作4"，3"晶圆及破片，具置放对准点；
具动光罩，晶圆水平校正功能可调整光罩，晶圆之真空吸附力大小；
曝光模式有真空接触式与近接式；
X，Y轴调整12mm.Z轴调整5mm，调整性能2um；
对准台以气缸驱动，往前做对准动作，往后做曝光动作；

四、操作系统
手动操作面板；
具光罩真空，晶圆真空，吸附真空之指示表计时器时间设定:0.1-999秒；
防止错误操作功能；

五、机座

按装有防震气垫，具良好避震功能；
按装有调整脚座及轮子，方便定位；

六、性能